半导体产业新突破:临时衬底载体专利申请热处理不再翘曲!
发布时间:2025-04-04 05:57:26
作者:Kaiyun热处理团队
近日,半导体元件工业有限责任公司在国家知识产权局成功提交了一项名为“临时衬底载体”的专利申请,专利公开号为CN119340260A,申请日期为2024年4月。这一技术突破可谓是半导体制造技术中的一项重要进展,旨在解决在高温加热操作中衬底翘曲的问题。
根据专利摘要,临时衬底载体的具体结构设计独具匠心。其核心框架包括内、外周边的巧妙配置:内周边专为有机衬底面板量身定制,大小略小于面板边缘。而外周边则大于面板,为整体提供了额外的支持。最为重要的是,框架边缘被设计为可以牢牢抵靠于有机衬底面板,这一设计无疑是为防止高温下可能出现的翘曲现象提供了有效的解决方案。
在半导体领域,工艺精度和材料稳定性是提升产品性能的关键。在这一背景下,临时衬底载体的申请,不仅展现了半导体元件工业在技术创新方面的持续努力,同时也为行业的未来发展插上了翅膀。这一新技术的实现,或将进一步推动半导体制造的质量和效率,给业内带来新的机遇与挑战。
当然,这项技术并不是毫无争议。随着半导体产业的激烈竞争,这一专利的实际应用效果、市场接受程度,以及对现有技术的影响都值得我们持续关注。未来,半导体行业是否能因这一专利而迎来新机遇,值得期待。
总之,在加热过程中不再担心衬底翘曲的时代或许已然不远,让我们拭目以待半导体工业的下一步发展。返回搜狐,查看更多